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        創新真空鍍膜設備離子鍍膜上的方法
        日期:2021-04-09 瀏覽:946

        真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內,真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

        多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優點,可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

        真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的不足,且各項技術指標都優于傳統工藝,在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

        催化液和傳統處理工藝相比,在技術上有哪些創新?

        1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一,不銹鋼的四分之一,可反復利用,大大降低了成本。

        2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”,需要再加工時不經任何處理。

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